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BOE，全称为 Buffered Oxide Etchant，中文译为缓冲氧化物刻蚀液，在化学领域尤其是半导体制造中扮演着重要角色。它是一种用于半导体晶圆加工的溶液，主要用于去除晶圆表面的氧化层，同时在刻蚀过程中保持均匀的速度和选择性，确保晶圆表面的平整度与质量。

BOE通常由氢氟酸（HF）和乙酸（CH3COOH）按一定比例混合而成，有时也会添加水或其它缓冲剂来调节其pH值，以提高稳定性并减少对设备的腐蚀。BOE的使用不仅限于半导体行业，也广泛应用于平板显示、太阳能电池板等领域，成为现代电子技术发展不可或缺的一部分。

由于其在微电子制造中的关键作用，BOE常被视为化学界的一种“神秘力量”。然而，值得注意的是，BOE具有一定的危险性，操作时需要严格遵守安全规范，做好个人防护措施。